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          高質量金屬膜及介質膜

            平臺具備PECVD生長高質量氧化硅、氮化硅介質膜,濺射或電子束蒸發生長鈦、鉑、金、鉻、鋁等常用金屬薄膜,以及設計并制作各類多層光學膜的能力。可用于超材料生長、金屬圖形化、光學鍍膜等方面。
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