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          電子束直寫光刻及配套工藝

            電子束光刻機可直寫10nm量級圖形,可應用于微型光柵、光子晶體、光學超表面、納米壓印模板等的制作與加工。平臺的電子束光刻機為日本電子公司的最新型號JEOL-9500FS,具備小批量進行電子束曝光的能力。
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